제품 상세 정보:
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순수성: | 99.95% | 원래 장소: | 중국 |
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제품 이름: | 텅스텐 스퍼터링 타겟 | 형태: | 둥글다 |
적용: | 증발, 코팅, 스퍼터링 | 브랜드 이름: | ZHENAN |
강조하다: | 990.95% 텅프렌 스프터링 타겟,진공 코팅 텅프렌 스프터링 표적,진공 코팅 텅프렌 스프터링 |
텅프렌 스프터링 목표물
설명:
텅스텐 스프터링 타겟은 원료로 순수한 텅스텐 분자로 만든 제품입니다.은색 하얀색 의 외모 를 가지고 있으며, 그 의 탁월 한 물리적 및 화학적 특성 때문 에 많은 분야 에 널리 사용 되고 있다.
사양:
적용:
텅프렌 스프터링 목표물높은 순도를 가지고 있으며, 진료 및 조형 후 표적의 순도는 일반적으로 99.95% 이상일 수 있습니다. 일반적으로 다른 조건이 변하지 않을 때,대상 물질의 순도가 높을수록, 생성 된 코팅의 전기적 특성이 더 좋으며 해당 회로는 단전 또는 손상 될 가능성이 적습니다.
비용은 상대적으로 합리적입니다. 분말 금속을 사용하는 직접 압축이 더 빠르므로 생산 주기를 효과적으로 단축하고 비용을 줄일 수 있습니다.시너지 가공 및 조립 후 대상 재료의 밀도는 19보다 더 높을 수 있습니다.0.1g/cm3
텅프렌 합금 스프터링 목표평면 디스플레이, 태양 전지, 통합 회로, 자동차 유리, 마이크로 전자, 메모리, X선 튜브, 의료 장비, 용조 장비 및 기타 제품에 널리 사용됩니다.
텅프렌 스프터링 목표물 일반적으로 분말금속 방법을 사용하여 제조됩니다. 먼저 분광 분자를 진공 열처리 오븐에 넣고 전 가스를 제거합니다.그 다음 수소를 넣고 가스를 제거하기 위해 가열을 계속합니다.두 번째로, 진공 열 압축을 통해 탈가스 된 울프스탄 분말의 합금 작업을 완료합니다.
세번째, sinter텅프렌 스프터링 목표물 한 번 시너지 된 제품은 뜨거운 이소스타틱 프레스로 시너지 된 후; 넷째,이산화탄소 산화제품의 전체 표면은 기계적 가공을 통해 가공하여 제품을 얻습니다.참고: 1) 울프스탄 분말의 순도는 99.999% 이상이고 입자 크기는 3.2~4.2μm 사이로 이루어져야 합니다.
FAQ:
Q: 공장 또는 무역 회사인가요?
A: 둘 다. 우리는 중국 헤난 지방에 4500 평방 미터 생산 작업장과 전문 서비스 팀을 가지고 있습니다.
Q: 샘플을 제공합니까?
A: 예, 우리는 당신이 참조하기 위해 무료 샘플을 제공합니다, 당신은 단지 화물 비용을 지불해야합니다.
질문: 공장을 방문할 수 있나요?
A: 우리는 당신이 언제든지 우리의 공장을 방문하기를 기대합니다.
뜨거운 태그: 텅스텐 스프터링 타겟, 중국 텅스텐 스프터링 타겟 제조업체, 공급업체, 공장
담당자: Mr. xie
전화 번호: + 8615896822096
팩스: 86-372-5055135