고 순수 티타늄 표적 둥근 스프터링 코팅 도구

고순도 티타늄 목표

설명:

타이타늄 스프터링 타겟의 "타겟"이라는 단어는 일상 생활에서 흔히 볼 수 있는 목표물에서 유래했습니다.코팅 소재는 전자 빔이나 이온 빔으로 폭격됩니다.표적이 발사되는 것처럼, 분출 과정에서 사용되는 물질은 "분출 대상"이라고 불립니다.

사양:

적용:

티타늄 스프터링 타겟은 원료와 동일한 특성을 가지고 있습니다. 고 순도 티 타겟은 지구 지각 (약 0.4%) 에 널리 분포합니다.세계 티타늄 매장량은 대략 3.40억 톤, 모든 원소 가운데 9 위. 티타늄은 높은 상업적 가치를 가진 재료입니다. 높은 강도, 좋은 부식 저항성, 높은 열 저항성 및 다른 장점으로 인해, 티타늄은 천연기소와 천연기소, 천연기소, 천연기소, 천연기소, 천연기소, 천연기소, 천연기소, 천연기소, 천연기소, 천연기소, 천연기소, 천연기소, 천연기소, 천연기소, 천연기소, 천연기소, 천연기소, 천연기소, 천연기소 등,그것은 항공우주와 같은 일상 생활 분야에서 널리 사용됩니다., 자동차 제조, 의료 및 건강 관리.

순수성: 순수성은 스프터 코팅으로 생산 된 필름의 성능에 큰 영향을 미칩니다. 예를 들어 티타늄 합금 스프터링 타겟을 취하면 순수성이 높을수록스프터링 필름의 경화 저항과 전기 및 광학적 특성이 높을수록.

불순물 함량: 표적 고체와 산소 및 구멍의 수증기 내의 불순물은 퇴적 된 필름의 주요 오염원입니다.각기 다른 용도로 사용되는 대상 재료는 불순물 함량에 대한 다른 요구 사항이 있습니다..

밀도: 목표물의 밀도는 스프터링 속도뿐만 아니라 필름의 전기 및 광학적 특성에 영향을 미칩니다. 따라서,고순도 티 타겟 고체에 포를 줄이고 스프터링 필름의 성능을 향상시키기 위해, 대상 물질은 일반적으로 더 높은 밀도를 요구됩니다.

티타늄 합금 스프터링 목표물의 준비

티타늄 합금 스프터링 타겟은 티타늄 금속으로 만들어진 티타늄 제품이며, 티타늄 얇은 필름을 생산하기 위해 스프터링 코팅에 사용됩니다. 간단히 말해서,티타늄 금속에서 티타늄 스프터링 타겟을 제조하는 두 가지 방법이 있습니다..

발사: 일정한 비중 의 원료 를 녹여, 합금 용액 을 성형 으로 붓어 진통 을 형성 하고, 마침내 발사 대상 으로 가공 한다..

파우더 금속공학: 일정한 분배 비율을 가진 원료를 녹여 덩어리로 붓고 그 다음 쪼개.분말은 일정적으로 압축되고 높은 온도에서 합금되어 최종적으로 표적을 형성합니다..