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제품 소개텅스텐 제품

99.95% 순수한 텅프스텐 스프터링 타겟 금속 W 텅프스텐 타겟 반성식

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99.95% Pure Tungsten Sputtering Target Metal W Tungsten Target Anti Corrosion
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큰 이미지 :  99.95% 순수한 텅프스텐 스프터링 타겟 금속 W 텅프스텐 타겟 반성식

제품 상세 정보:
원래 장소: 중국
브랜드 이름: ZHENAN
인증: ISO9001:2015
모델 번호: 순수한 텅프렌 금속 스프터링 표적
결제 및 배송 조건:
최소 주문 수량: 협상 가능
가격: negotiable
포장 세부 사항: 1MT 빅 백 또는 고객 요청에 따라서
배달 시간: 7-10 작업 일수 뒤에 대금을 받았습니다
지불 조건: L/C, T/T, 웨스턴 유니온
공급 능력: 2000MT/per 달

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설명
제품 조성: 순수한 텅프렌 금속 스프터링 표적 형태: 둥글다
등급: 텅스텐 합금 표면: 피연마면
브랜드 이름: ZHENAN 유효순도(%): 99.5%,99.8%,99.9%,99.95%,99.99%
강조하다:

원프라멘 스프터링 목표 99.95% 순수

,

산화 방지 텅프렌 스프터링 목표물

,

99.95%의 순수한 텅스텐 스프터링

순수한 텅프렌 금속 스프터링 표적

설명:

텅스텐 스프터링 타겟은 원료로 순수한 텅스텐 분말로 만든 제품입니다.은색 하얀색 의 외모 를 가지고 있으며, 그 의 탁월 한 물리적 및 화학적 특성 때문 에 많은 분야 에 널리 사용 되고 있다.

스프터링 타겟은 마그네트론 스프터링 코팅에 사용됩니다. 이것은 새로운 유형의 물리 증기 코팅 (PVD) 방법입니다.

정사각형 자기장과 전기장이 스푸터 타겟그리고 아노드, 그리고 필요한 무활성 가스 (일반적으로 Ar 가스) 는 높은 진공 챔버에 채워집니다. 전기장의 작용으로, Ar 가스는 양성 이온과 전자로 이온화됩니다.특정 부정적인 고전압이 목표에 추가됩니다.표적에서 방출되는 전자는 자기장에 영향을 받으며 작업 가스의 이온화 확률이 증가하여 카토드 근처에 고밀도의 플라스마를 형성합니다.아리온은 로렌츠 힘에 의해 움직입니다.표적 표면으로 가속화하고 매우 빠른 속도로 표적 표면을 폭격합니다.표적에 있는 분출된 원자들은 운동량 변환의 원리를 따르고, 높은 운동 에너지를 가지고 표적 표면에서 기판으로 날아가서 필름을 퇴적하게 됩니다..

사양:

제품 이름 텅스텐 (W) 스프터링 목표물
사용 가능한 순도 (%) 990.5%,990.8%,99.9%,99.95%,990.99%
형태: 판, 둥근, 회전, 파이프/튜브
녹는점 ((°C) 3407 ((°C)
밀도 ((g/cm3) 19.35g/cm3
녹음의 잠복 열 40.13±6.67kJ/mol
표면 상태 폴란드어 또는 알칼리 세탁

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적용:

텅스텐 타겟은 다음과 같은 장점을 가지고 있습니다.

1분말 금속공학의 광범위한 응용은 티타늄과 같은 다른 표적 재료의 비용보다 텅스텐 표적의 비용을 낮춰줍니다.

2. 구성과 구조는 통일되어 텅프렌 목표물의 기울기 힘을 향상시킵니다.

3입자 크기는 미세하고 곡물은 균일하고 평평하며 농도는 높고 코팅 제품의 품질은 높습니다.

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FAQ:

Q: 공장이거나 무역회사인가요?
A: 우리는 공장과 무역 회사입니다.

Q: 나는 제품에 내 자신의 LOGO를 가질 수 있습니까?
A: 예, 당신은 우리에게 당신의 디자인을 보낼 수 있습니다. 그리고 우리는 당신의 로고를 만들 수 있습니다.

Q: 배송을 할 수 있나요?
A: 물론, 우리는 대부분의 선박 회사에서 최고의 가격을 얻고 전문적인 서비스를 제공 할 수있는 영구 화물 운송사가 있습니다.

Q: 우리는 당신의 공장을 방문 할 수 있습니까?
A: 따뜻한 환영입니다. 일단 우리가 당신의 일정을 가지고 나면 우리는 당신을 데려 올 것입니다.

연락처 세부 사항
Zhenan Metallurgy Co., Ltd

담당자: Mr. xie

전화 번호: + 8615896822096

팩스: 86-372-5055135

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